[发明专利]形成光学格栅组件的方法与测量光学格栅的性质的系统有效
申请号: | 201980073952.7 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN113039464B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 约瑟·C·欧尔森;卢多维克·葛特;鲁格·迈尔提摩曼提森;摩根·艾文斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 美国加州圣塔克拉尔,鲍尔斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供形成光学格栅组件的方法与测量光学格栅的性质的系统。在一些实施例中,一种方法包括提供光学格栅层以及在光学格栅层中形成光学格栅,其中光学格栅包括相对于光学格栅层的平面的垂直线以非零倾斜角设置的多个斜角沟槽。所述方法可还包括将来自光源的光传送至光学格栅层中以及测量以下中的至少一者:光的离开光学格栅层的非绕射部分及光的离开光学格栅层的绕射部分。 | ||
搜索关键词: | 形成 光学 格栅 组件 方法 测量 性质 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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