[发明专利]用于在光刻工艺中照明的白光源和照明设备在审
申请号: | 201980075519.7 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN113015941A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 金汉镀;金炳旬;崔荣植;朴漌烈;朴恩美;崔容善 | 申请(专利权)人: | GLBTECH株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/09 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 赵永莉;刘成春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于在光刻工艺中照明的白光源和照明设备,更特别地,涉及一种用于在光刻工艺中照明,并且即使在光刻工艺中使用有限波长的光的情况下也能够实现白光的白光源和照明设备。公开了一种用于照明执行光刻工艺的曝光室的白光照明设备,该设备包括白光源,该白光源包括:发射峰值波长为450nm至490nm的蓝色发光二极管元件;以及对该蓝色发光二极管元件进行封装的封装层,其中在该封装层中分布与蓝色发光二极管元件一起实施白光发射的一个或多个磷光体以及封阻具有光刻工艺中使用的波长的光的封阻剂,从而形成波长为450nm至490nm的第一峰值区域以及与第一峰值区域结合实现白光发射的第二峰值区域,并且限制光刻工艺中使用的波长。 | ||
搜索关键词: | 用于 光刻 工艺 照明 白光 照明设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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