[发明专利]气体喷嘴和气体喷嘴的制造方法以及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201980077166.4 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN113165139B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 野口幸雄;左桥知也 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | B24B31/00 | 分类号： | B24B31/00;C04B35/50;H01L21/3065;H01L21/31;B05B15/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴克鹏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的气体喷嘴具备引导气体的管状的供给孔、和连接于该供给孔的喷射孔，是由该喷射孔喷射所述气体的、以稀土元素的氧化物、氟化物或氧氟化物或以钇铝复合氧化物为主成分的陶瓷或单晶所形成的气体喷嘴，其中，形成所述供给孔的内周面的算术平均粗糙度Ra，所述气体的流出侧一方比流入侧小。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 喷嘴 制造 方法 以及 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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