[发明专利]具有定制提取孔的离子源在审
| 申请号： | 201980079403.0 | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN113169006A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 帕特里克·赫雷斯;丹尼斯·罗比塔尔 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J27/02 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 刘芳;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸塞州*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种离子注入系统，包括离子源，所述离子源具有离子源弧形腔室壳体，其限制所述腔室壳体内的离子的高密度浓度。限定提取孔(126)的提取构件(128)允许离子离开所述弧形腔室。所述提取构件限定了定制的提取孔的形状，以用于修改离子束特征并在整个离子束尺寸范围内产生基本均匀的离子束电流。提取孔构件限定细长隙缝形式的孔，所述细长隙缝具有变化的宽度(W1，W2)。所述提取孔的定制形状包括具有第一宽度尺寸(W1)的中心部分，以及从所述中心部分的相对侧延伸的第一远侧部分和第二远端部分，所述相对的远端部分具有第二宽度尺寸(W2)，所述第二宽度尺寸大于所述中心部分的所述第一宽度尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 定制 提取 离子源 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾克塞利斯科技公司，未经艾克塞利斯科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980079403.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
