[发明专利]流量限制件、流量限制组件和光刻设备在审
| 申请号： | 201980080784.4 | 申请日： | 2019-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN113168120A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | B·B·C·G·范艾尔顿;P·J·J·H·A·哈彼特斯;R·范德米瑞东克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F15D1/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种流量限制件(200)、一种流量限制组件(400)和用于制造所述流量限制件和所述流量限制组件的方法。用于管道(300)中以便限制流体的流量的所述流量限制件包括主体，所述主体沿轴线(290)延伸且包括：i)具有恒定的横截面的中心部分(240)；ii)上游部分(220)，其中所述上游部分的横截面积在沿所述轴线的下游方向上单调地增加；以及iii)下游部分(260)，其中所述下游部分的横截面积沿所述下游方向单调地减小。所述流量限制件还包括用于与管道的内表面接合的多个中心部分突出部(280)，所述多个中心部分突出部中的每个中心部分突出部沿垂直于所述中心部分的表面的方向从所述中心部分的表面突伸出小于500微米的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 流量 限制 组件 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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