[发明专利]极紫外光刻用工艺液体及使用其的图案形成方法在审
申请号: | 201980081913.1 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN113196178A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 李秀珍;金起洪;李昇勋;李昇炫 | 申请(专利权)人: | 荣昌化学制品株式会社 |
主分类号: | G03F7/32 | 分类号: | G03F7/32 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请发明涉及一种用于对使用于极紫外光曝光光源的包括聚羟基苯乙烯(polyhydroxystyrene)的光致抗蚀剂图案进行坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体,更详细地,涉及一种用于光致抗蚀剂图案的坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体组合物及使用其的图案形成方法,其中,所述工艺液体组合物包括:0.0001至1重量%的碱性物质,0.0001至1重量%的阴离子表面活性剂,及98至99.9998重量%的水。 | ||
搜索关键词: | 紫外 光刻 用工 液体 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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