[发明专利]具有不均匀的纵向截面的用于半导体材料的外延反应器的反应室及反应器有效
| 申请号： | 201980083556.2 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN113195780B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚;毛里利奥·梅斯基亚 | 申请（专利权）人： | 洛佩诗公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C30B23/06;C30B25/10;C23C16/46;C30B35/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 意大利米*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 反应室(100A)用于反应器，用于在基底(62)上沉积半导体材料；反应室沿纵向方向延伸，并包括沿该纵向延伸的反应和沉积区域(10)；该区域(10)由适于通过电磁感应加热的感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B、31、32)限定；第一感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B)与室的基底支撑元件(61)相对，并且具有孔(20)，该孔沿着其整个长度在纵向方向上延伸；第一感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B)具有取决于其纵向位置的不均匀的横截面。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 不均匀 纵向 截面 用于 半导体材料 外延 反应器 反应 | ||
【主权项】：
暂无信息
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