[发明专利]同时获取平行对准标记的设备和方法在审
| 申请号： | 201980084736.2 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN113196180A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | T·M·T·A·M·埃拉扎里;F·G·C·比基恩;亚历山德罗·波洛;K·U·索博列夫;S·R·胡伊斯曼;J·L·克勒泽 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 获取 平行 对准 标记 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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