[发明专利]处理腔室混合系统在审
| 申请号： | 201980088280.7 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN113287185A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | G·萨布斯瓦米;S·沃内特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 付尉琳;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 示例性的处理系统可包含处理腔室，并且可包含远程等离子体单元，该远程等离子体单元与该处理腔室耦接。示例性的系统也可包含耦接在该远程等离子体单元与该处理腔室之间的混合歧管。该混合歧管可由第一端和与该第一端相对的第二端表征，并且可与该处理腔室在该第二端处耦接。该混合歧管可限定通过该混合歧管的中央通道，并且可限定沿着该混合歧管的外部的端口。该端口可与限定在该混合歧管的该第一端内的第一沟槽流体地耦接。该第一沟槽可由在第一内侧壁处的内半径和外半径表征，并且该第一沟槽可提供通过该第一内侧壁到该中央通道的流体通路。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 混合 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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