[发明专利]用于容器的等离子体处理的设备和方法

摘要

本发明涉及一种用于容器（5）的等离子体处理的设备，该设备包括用于生成过程气体混合物的过程气体发生器（100）并且包括至少一个涂布站（3），所述涂布站包括具有处理位置（40）的至少一个等离子体室（17），在所述等离子体室中具有容器内部（5.1）的至少一个容器（5）可以被插入并被定位在处理位置（40）处，每个等离子体室（17）是至少部分可抽空的以便通过容器（5）吸入由过程气体发生器（100）提供的过程气体，容器的内部因此借助于等离子体处理被提供内部涂布，并且压力测量设备（79，96‑98）被提供在设备的预定点处以便确保过程稳定性。根据本发明，至少在设备的一些预定点处的压力测量设备（96‑98）包括依赖于气体类型的压力换能器（86）。