[发明专利]用于从入射电磁波形成输出电磁波的器件在审
申请号: | 201980090890.0 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN113383265A | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 阿提姆·鲍里斯金;瓦尔特·德拉齐克;奥克萨那·什拉姆科娃 | 申请(专利权)人: | 交互数字CE专利控股公司 |
主分类号: | G02B27/56 | 分类号: | G02B27/56;B82Y20/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种从入射电磁波形成输出电磁波的光学器件。这种器件包括至少一个单位单元,该单位单元包括:‑至少两个光学元件,光学元件的特征在于对所述入射电磁波的光学响应类型;‑选择装置,其能够响应于所述入射电磁波,根据所述入射电磁波的波长,选择性地激发所述至少两个光学元件中的至少一个光学元件,其中所述选择装置包括至少一种具有不同折射率的至少两种介电材料的基于纳米射流的介电偏转器复合物,并且其中所述光学元件被放置在距所述基于纳米射流的介电偏转器一定距离处。 | ||
搜索关键词: | 用于 入射 电磁波 形成 输出 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于交互数字CE专利控股公司,未经交互数字CE专利控股公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980090890.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体晶体薄膜的制造方法和激光退火系统
- 下一篇:水处理系统及水处理方法