[发明专利]用于钨化学机械抛光的组合物有效
| 申请号： | 201980093214.9 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN113597456B | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 张娜;K.P.多克里;刘兆;R.A.伊万诺夫 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 化学机械抛光组合物，其包括：基于水的液体载剂、分散在该液体载剂中的阳离子型研磨剂颗粒、具有小于7的等电点的第一氨基酸化合物及具有大于7的等电点的第二氨基酸化合物。该组合物的pH在约1至约5的范围内。用于化学机械抛光包括钨层的基板的方法，包括：使该基板与前述的抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，及研磨该基板以从该基板移除一部分钨且由此抛光该基板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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