[发明专利]X射线残留应力测定用基准片的制造方法和X射线残留应力测定用基准片在审
| 申请号： | 201980094243.7 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN113574368A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 小林祐次;松井彰则;齐藤悠太 | 申请（专利权）人： | 新东工业株式会社 |
| 主分类号： | G01N23/205 | 分类号： | G01N23/205;G01N1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张佳鑫;董庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种无畸变铁粉以外的金属材料作为X射线残留应力测定用基准片。对金属材料表面的至少一部分进行纳米结晶化之后，通过退火除去内在应变而进行去应力化，从而解决上述技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 残留 应力 测定 基准 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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