[发明专利]用于衬底的气体处理的反应器在审
申请号: | 201980098102.2 | 申请日: | 2019-06-10 |
公开(公告)号: | CN114269964A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 奥洛夫·科迪纳;陈志泰;马丁·埃里克松 | 申请(专利权)人: | 斯维甘公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/54;C23C16/455;C30B25/14;B01F23/10;H01J37/32;C30B31/16 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李健 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文披露了一种在用于衬底的气体处理的反应器中使用的气体入口装置(21,21a‑21k)。该气体入口装置包括:入口凹穴,该入口凹穴具有背壁(233)以及在下游方向(F)上从该背壁(233)朝向入口凹穴开口(212)延伸的侧壁(234,235);撞击表面(243);气体孔口(210),该气体孔口被配置成将气流导向该撞击表面(243);以及锥形表面(244,245),该锥形表面在该撞击表面(243)下游延伸,使得在该侧壁(234,235)与该锥形表面(244,245)之间形成流动间隙(213),该流动间隙沿着下游方向(F)具有逐渐增大的截面积。本文进一步披露了一种混合装置、一种气体出口装置、一种反应器以及这种反应器的用途。 | ||
搜索关键词: | 用于 衬底 气体 处理 反应器 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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