[发明专利]一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理方法在审
| 申请号： | 202010003944.X | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN111101189A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 孙运超 | 申请（专利权）人： | 湖南大昊科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 高琦 |
| 地址： | 410000 湖南省长沙市岳麓区西*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明主要涉及表面处理工艺，提供了一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理方法，首先利用超声波清洗机将待清洁电磁结构进行超声波清洗，将待清洁电磁结构表面的油污清除，提高待清洁电磁结构表面的清洁度，然后采用磷酸清洗剂对待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光，磷酸清洗剂可与待清洁电磁结构表面的金属离子在待清洁电磁结构表面形成一层磷酸盐膜，该磷酸盐膜可将待清洁电磁结构的粗糙表面逐渐整平，最后再将表面被整平的待清洁电磁结构进行真空烘烤，从而提高待清洁电磁结构的光洁度，实施本发明有利于提高HPM器件电磁结构表面射频场击穿阈值，延长HPM器件输出微波的脉宽，从而提高HPM器件的单脉冲能量及平均功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 射频 击穿 阈值 电磁 结构 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
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