[发明专利]一种阵列式液滴晶体制备方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010005665.7 申请日: 2020-01-03
公开(公告)号: CN111139517A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 周禹杉 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C30B7/02 分类号: C30B7/02
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 郑海峰
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种阵列式晶体制备的方法及其装置。阵列式晶体制备装置包括操作箱、阵列液滴制备模块和晶体生长基底模块;该方法通过调节阵列液滴体积精确获得结晶晶体质量,控制温度湿度精准调控获得的目标晶型或晶习,操作快速简单、生产过程经济价廉、绿色环保。整套装置可广泛用于各类晶体(纳米、原子、分子)生长制备,尤其是药物制备的生产过程。
搜索关键词: 一种 阵列 式液滴 晶体 制备 方法 装置
【主权项】:
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