[发明专利]用于静电防护的晶体管结构及其制造方法有效
申请号: | 202010011505.3 | 申请日: | 2020-01-06 |
公开(公告)号: | CN111180421B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 王炜槐;陆阳 | 申请(专利权)人: | 杰华特微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/60 | 分类号: | H01L23/60;H01L29/06;H01L29/739;H01L21/331 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;张靖琳 |
地址: | 310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 公开一种用于静电防护的晶体管结构及其制造方法,晶体管结构包括:衬底和形成于所述衬底上部的第一掺杂区;形成于所述衬底表面的多个场氧化层;形成于所述第一掺杂区中部的第二掺杂区,所述第一掺杂区与所述第二掺杂区的掺杂类型相反;形成于所述第一掺杂区上部的第一N型阱区、第一P型阱区、第二P型阱区和第二N型阱区;分别形成于所述第一N型阱区和所述第二N型阱区中的第一N+区域和第二N+区域;以及形成于所述第一掺杂区上部且位于所述第二掺杂区上方的P+区域,其中,所述第二掺杂区位于所述第一P型阱区和所述第二P型阱区之间,且分别与所述第一P型阱区和所述第二P型阱区连接。使得器件能保持良好的静电防护能力和很高的鲁棒性。 | ||
搜索关键词: | 用于 静电 防护 晶体管 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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