[发明专利]一种碳化硅膜连续碳纤维板的制备方法有效
申请号: | 202010014239.X | 申请日: | 2020-01-07 |
公开(公告)号: | CN111118472B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 唐竹兴;田露;苏秋歌 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/455;C23C16/54;C23C16/52;C04B35/628 |
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地址: | 255086 山东省淄*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种碳化硅膜连续碳纤维板的制备方法,其特征在于,连续碳纤维板是在碳化硅膜连续碳纤维板镀膜机中通入工艺气体在被加热的碳纤维束表面连续沉积碳化硅形成碳化硅膜,随着碳化硅薄膜的增厚把相邻碳纤维束链接成一体形成碳化硅膜连续碳纤维板。本发明是采用碳化硅膜连续碳纤维板镀膜机直接加热碳纤维束,工艺气体高温裂解生成的碳化硅绝大部分沉积在碳纤维束的表面,极少部分沉积在隔热屏上,碳纤维束的间距、碳化硅膜连续碳纤维板和碳化硅膜的厚度可以随机任意选择,不但节省原材料、节能且生产效率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 连续 碳纤维 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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