[发明专利]一种微波等离子辅助的溅射光学成膜方法在审
| 申请号： | 202010021521.0 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN111074225A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 毛念新;黄翔鄂;严仲君 | 申请（专利权）人： | 上海嘉森真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 | 代理人： | 吴玮 |
| 地址： | 201801 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及溅射成膜技术领域，具体来说是一种微波等离子辅助的溅射光学成膜方法，在溅射过程中，通过固态微波源激励等离子体实现膜层氧化，以提高膜层折射率的稳定性。本发明优选地采用工业微波频率为2450MHz的固态微波源，相对于使用RF射频激励等离子体的方式其具有以下优点：使用频率提高很大，RF射频频率为13.56M Hz，而微波频率为2450M Hz，使得氧气在真空腔室内活化的效率大大提高；不需要使用大功率射频电源，或使用多个射频氧化源，大幅降低设备成本；膜层折射率稳定性大幅提高，镀膜产品品质、良品率提高；采用矩形谐振腔的设计，使谐振腔内微波谐振腔模式数取得最大值，提高微波场的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微波 等离子 辅助 溅射 学成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海嘉森真空科技有限公司，未经上海嘉森真空科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010021521.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
