[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010023703.1 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN111430209A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够调整基板的边缘附近的等离子体密度和基板的比边缘靠内侧的区域上的等离子体密度的等离子体处理装置。在一个实施方式的等离子体处理装置中，具备腔室和基板支承器。基板支承器具有下部电极和静电卡盘。基板支承器在腔室内支承被载置在静电卡盘上的基板。边缘环以包围基板的边缘的方式配置。偏置电源经由第一电路径而与下部电极连接。与第一电路径及下部电极相分别的第二电路径被设置为从下部电极或第一电路径向边缘环供给偏置电力。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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