[发明专利]低滚降准二维钙钛矿发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010024260.8 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN111192971B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 杨绪勇;张婷 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种低滚降准二维钙钛矿发光二极管及其制备方法,从下而上依次设置阴极、空穴传输层、空穴传输层与发光层界面修饰层、钙钛矿发光层、发光层与电子传输界面修饰层、电子传输层、电子注入层、阳极。本发明通过修饰空穴传输层与钙钛矿发光层的界面,不仅减小空穴层与发光层间的空穴注入势垒,改善空穴的注入效率,并且能阻挡空穴层对钙钛矿层的淬灭,提高钙钛矿层的发光效率。本发明还修饰钙钛矿发光层与电子传输层的界面,不仅能钝化钙钛矿表面的缺陷态,同时改善发光层的薄膜质量,抑制非辐射复合,从而进一步提高器件发光效率。
搜索关键词: 低滚降准 二维 钙钛矿 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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