[发明专利]低滚降准二维钙钛矿发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 202010024260.8 | 申请日: | 2020-01-10 |
公开(公告)号: | CN111192971B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 杨绪勇;张婷 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种低滚降准二维钙钛矿发光二极管及其制备方法,从下而上依次设置阴极、空穴传输层、空穴传输层与发光层界面修饰层、钙钛矿发光层、发光层与电子传输界面修饰层、电子传输层、电子注入层、阳极。本发明通过修饰空穴传输层与钙钛矿发光层的界面,不仅减小空穴层与发光层间的空穴注入势垒,改善空穴的注入效率,并且能阻挡空穴层对钙钛矿层的淬灭,提高钙钛矿层的发光效率。本发明还修饰钙钛矿发光层与电子传输层的界面,不仅能钝化钙钛矿表面的缺陷态,同时改善发光层的薄膜质量,抑制非辐射复合,从而进一步提高器件发光效率。 | ||
搜索关键词: | 低滚降准 二维 钙钛矿 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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