[发明专利]基于自适应拟随机搜索的晶圆膜厚测量方法

摘要

本发明公开了一种自适应拟随机搜索的晶圆膜厚测量方法，主要包括以下步骤：步骤一通过光谱仪测量待测二氧化硅晶圆片，获取白光反射率谱，该谱表现为该膜厚下不同波长对应的反射率关系；步骤二将步骤一采集所得的白光反射率谱信号采样作为输入参数，初始化自适应拟随机搜索法参数R1、R2，计算R1、R2的理论白光反射率谱与输入量的差方值，自适应调节R1、R2值直到均方差值小于一定的量；步骤三输出最佳参数值R1、R2，取平均值即认为是所测量晶圆膜的膜厚值。本发明将自适应随机搜索法运用在晶圆膜厚测量当中，获取精确的膜厚值，有效提高了测量值的精度。