[发明专利]检测单个晶体结构中的异常的方法在审
| 申请号： | 202010030751.3 | 申请日： | 2020-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN111443102A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 杰奎琳·格瑞菲斯;斯科特·杜菲维尔;纳西莎·C·平扎里乌;卡洛斯·爱德华多·梅斯基塔弗里亚斯 | 申请（专利权）人： | 劳斯莱斯有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2055 | 分类号： | G01N23/2055;G01N23/20008 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 杨国治;王玮 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检测晶体学结构中的异常的方法，所述方法包括：在相对于所述晶体学取向的已知方向上利用x射线辐射对所述结构进行照明；对所述结构进行定位使得所述结构的晶体学取向是已知的；对透射穿过所述结构的衍射的所述x射线辐射的图案进行检测；基于相对于所述晶体学取向的所述已知方向来生成模拟的所述图案；将所检测图案与在所述已知方向上进行照明的x射线辐射的模拟图案进行比较；以及基于所述比较来检测所述晶体学结构中的所述异常。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 单个 晶体结构 中的 异常 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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