[发明专利]一种硅片激光打标方法在审

专利信息
申请号: 202010032542.2 申请日: 2020-01-13
公开(公告)号: CN111112846A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 孙晨光;张宏杰;武卫;刘建伟;由佰玲;刘园;常雪岩;谢艳;杨春雪;刘秒;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;王彦君;吕莹;徐荣清 申请(专利权)人: 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/402
代理公司: 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 代理人: 栾志超
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供一种硅片激光打标方法,包括以下步骤,设定打标内容;扫描硅片,确定硅片的位置和数量;确定打标位置及打标图形;进行打标。本发明的有益效果是用于对大直径具有V槽和参考面的硅片进行打标,在硅片表面形成永久文字,不易模糊脱落,硅片表面洁净,便于进入后道工序。
搜索关键词: 一种 硅片 激光 方法
【主权项】:
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