[发明专利]一种雪崩光电二极管有效
申请号: | 202010040041.9 | 申请日: | 2020-01-15 |
公开(公告)号: | CN111403540B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 赵彦立;田扬 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/0216 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种雪崩光电二极管,包括:从上到下依次分布的第一接触层、本征吸收层、本征分压层、电荷控制层、倍增层和第二接触层;通过在本征吸收层和电荷控制层之间加入本征分压层,通过采用本征分压层,基于电势和电场的之间的关系,在不影响吸收层和倍增层电场的电场相对分布的前提下,增加雪崩光电二极管的厚度,从而降低由于电子空穴对的空间电荷效应而导致的倍增层的电场下降量,提高了雪崩光电二极管的线性度,与此同时,本发明并没有减小耗尽吸收层的厚度,雪崩光电二极管的响应度较高,能够同时兼顾雪崩光电二极管线性度与响应度性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的