[发明专利]一种离子镀膜与电子束蒸发镀膜结合的镀膜装置及其镀膜方法在审
| 申请号： | 202010041461.9 | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN111235532A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 程云立;马华;付久龙;武金魁 | 申请（专利权）人： | 长钛工程技术研究院（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/32;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京知汇林知识产权代理事务所(普通合伙) 11794 | 代理人： | 杨华 |
| 地址： | 100040 北京市石景山*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子镀膜与电子束蒸发镀膜结合的镀膜装置，包括：离子镀膜组件、电子束蒸发镀膜组件、被镀基材、坩埚和真空室，所述真空室左右两侧设置离子镀膜组件，所述真空室的上方设置电子束蒸发镀膜组件，所述被镀基材设置在所述真空室的中部，所述坩埚设置在所述被镀基材的下方。本发明还提供一种镀膜方法，通过离子镀膜方法在被镀基材表面上用金属离子轰击清洗打底沉积一层薄薄的金属膜层形成金属过渡层，再用大功率电子束蒸发镀膜的方法进行快速沉积形成膜层，由于金属过渡层的存在，增强了膜层组合的多元性以及增加了膜层用途的多功能性，因此，本发明提供的镀膜方法能大幅提高所镀膜层的结合力及沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 镀膜 电子束 蒸发 结合 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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