[发明专利]在晶圆上形成多个图样层的方法以及其曝光装置有效
| 申请号： | 202010042053.5 | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN112835265B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 田笵焕;金帅炯;梁时元;李其衡;权炳仁 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 彭辉剑;龚慧惠 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，用于将一光罩上的图样转移到一晶圆。前述曝光装置包含一照明模块、一光罩载台、一投影模块、一晶圆载台以及一控制单元。前述控制单元用于计算前述晶圆之一对位设定值。前述晶圆包含一第一晶圆层以及一第二晶圆层设置于前述第一晶圆层上。前述第一晶圆层包含一第一对位参数；前述第二晶圆层包含一第二对位参数。前述控制单元取得一第一加权因子以及一第二加权因子。前述第一加权因子为依据前述第一晶圆层之属性所预设决定；前述第二加权因子为依据前述第二晶圆层之属性所预设决定。前述光罩之对位设定值由前述第一对位参数、前述第二对位参数、前述第一加权因子以及前述第二加权因子所计算得出。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆上 形成 图样 方法 及其 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏泰鑫半导体（青岛）有限公司，未经夏泰鑫半导体（青岛）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010042053.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：联合干燥冻干米饭制备方法
- 下一篇：发光二极管驱动电路与方法
