[发明专利]镀膜设备和镀膜设备的工作方法在审
申请号: | 202010045068.7 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN111041457A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 宗坚;韦庆宇;赵天祥 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505;C23C16/458;C23C16/455;C23C16/26 |
代理公司: | 宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33244 | 代理人: | 罗京 |
地址: | 214183 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一镀膜设备和镀膜设备的工作方法,其中所述镀膜设备供至少一待镀膜工件镀膜,其中所述镀膜设备包括一反应腔体、一气体供给部、一真空抽气装置以及一非对称双极性脉冲电源,其中所述反应腔体具有一反应腔,所述反应腔用于容纳该待镀膜工件,其中所述气体供给部用于向所述反应腔供给气体,其中所述真空抽气装置被可连通于所述反应腔地连接于所述反应腔体,其中所述非对称双极性脉冲电源用于向所述反应腔提供电场,当所述非对称双极性脉冲电源被连通,所述反应腔室内产生等离子体以增强气体的化学反应以在该镀膜工件表面形成膜层。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 工作 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的