[发明专利]新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法有效
| 申请号： | 202010046427.0 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN111440104B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 福岛将大;大桥正树;片山和弘 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07D307/33;C07D307/93;C07D327/06;C07D333/76;C07D495/08;G03F7/004;G03F7/20;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。 |
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| 搜索关键词： | 新颖 化学 增幅 抗蚀剂 组成 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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