[发明专利]一种表面生长有单层石墨烯的单晶铁(111)、其制备和应用有效

专利信息
申请号: 202010055690.6 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111411343B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 洪正敏;李若凡;游龙 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/02;C01B32/186
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 彭翠;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于自旋电子学领域,更具体地,涉及一种表面生长有单层石墨烯的单晶铁、其制备和应用。将表面清洁的铁样品置于含有烃类气体的真空环境中,通过解离吸附的方法,该铁样品从烃类气体中夺取碳元素,在Fe(111)表面上生长出单层石墨烯。由于石墨烯的存在,单晶Fe(111)可以保持其原有的性能,防止与空气中的氧气发生反应。由于Fe结构的独特性质,大量随机取向的畴壁被观察到,这样高质量的自旋器件可以简单地通过在铁表面上生长单层石墨烯来制造,在以后的研究中这种器件有望应用于存储领域或者逻辑计算领域。
搜索关键词: 一种 表面 生长 单层 石墨 单晶铁 111 制备 应用
【主权项】:
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