[发明专利]金属薄膜的制备方法及金属薄膜结构有效

专利信息
申请号: 202010062242.9 申请日: 2020-01-20
公开(公告)号: CN111254411B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 蔡康;李昭;许闵壹;彭浩;刘红;叶微 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: C23C16/14 分类号: C23C16/14;C23C16/02;C23C16/34;C23C16/455
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;杨思雨
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种金属薄膜的制备方法及金属薄膜结构。该金属薄膜的制备方法包括:在晶片上形成粘附层,晶片位于腔室内;以及向腔室中通入第一前驱体和第二前驱体,以在粘附层的表面上形成金属薄膜,其中,在通入第一前驱体和第二前驱体之前,对粘附层的表面进行预处理,以提高表面的组分均一性,从而调整金属薄膜的反射率。该金属薄膜的制备方法通过对粘附层表面进行预处理,使得金属薄膜的反射率可控,有利于改善金属薄膜反射率的均匀性和一致性,从而有利于金属薄膜的工业化批量生产。
搜索关键词: 金属 薄膜 制备 方法 结构
【主权项】:
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