[发明专利]一种光刻胶剥离系统及光刻胶剥离方法在审
| 申请号： | 202010067663.0 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN111142342A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 郭昭;李炳天;王振;邓治国;任志明;晏熙;黄超;刘杰;郭荣波;李显杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 张佳 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶剥离系统及光刻胶剥离方法，该光刻胶剥离系统依次包括相互连接的剥离腔室、清洗腔室和喷淋腔室。在剥离腔室完成光刻胶剥离后的基板进入清洗腔室，在清洗腔室先采用水刀清洗机构向基板上喷水形成均匀水膜覆盖在基板膜层表面，保证基板膜层表面残留光刻胶的流动性，并且在清洗腔室采用第二喷淋机构向形成有均匀水膜的基板喷水以清洗掉基板上残留的光刻胶和剥离液。因此本发明在剥离腔室之后采用的清洗腔室可以防止从剥离腔室出来后的残留光刻胶和残留剥离液在风干作用下固化，而重新附着在基板表面，造成显示时白点不良的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 剥离 系统 方法 | ||
【主权项】：
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