[发明专利]用于决定元件在光刻掩模上的位置的设备与方法有效
| 申请号： | 202010068024.6 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN111458983B | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | M.布达赫;N.奥思 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于用于决定至少一个元件(130、540、940)在光刻掩模(110)上的位置的设备(200)，该设备包含：(a)至少一个扫描粒子显微镜(210)，其包含第一参考物体(240)，其中第一参考物体(240)设置在扫描粒子显微镜(210)上，使得扫描粒子显微镜(210)可用于决定至少一个元件(130、540、940)在光刻掩模(110)上相对第一参考物体(240)的相对位置；以及(b)至少一个距离测量装置(270)，其实施为决定第一参考物体(240)和第二参考物体(250)之间的距离，其中第二参考物体(250)与光刻掩模(110)之间存在一关系。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 决定 元件 光刻 掩模上 位置 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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