[发明专利]一种伪单光子源及制备方法有效

专利信息
申请号: 202010077638.0 申请日: 2020-01-31
公开(公告)号: CN111261761B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 张巍;余竞航;黄翊东;冯雪;刘仿;崔开宇 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L33/30 分类号: H01L33/30;H01L33/36;H01L33/44;H01L33/58
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 程琛
地址: 100084 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种伪单光子源及制备方法,包括:依次叠置的背电极层、衬底层和伪单光子源阵列;伪单光子源阵列包括依次叠置的第一绝缘层、金属遮光层、第二绝缘层和电极层;其中,第一绝缘层设置有第一通光孔,金属遮光层设置有第二通光孔,第二绝缘层设置有第三通光孔,电极层设置有线栅;第一通光孔、第二通光孔、第三通光孔和线栅为同心圆,且第二通光孔、第三通光孔和线栅的尺寸依次减小。利用半导体有源层发光,其上制备遮光层遮挡杂光,实现光的线偏振输出。该结构可实现在芯片上的集成,形成不同偏振方向的伪单光子源阵列,通过控制阵列中各光源的输入电流,可以实现各种线偏振单光子的独立输出。
搜索关键词: 一种 光子 制备 方法
【主权项】:
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