[发明专利]用于抛光介电衬底的具有稳定的磨料颗粒的化学机械抛光组合物有效
| 申请号： | 202010078522.9 | 申请日： | 2020-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN111471400B | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 郭毅 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;钱文宇 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于抛光介电衬底的化学机械抛光组合物，其包含用聚烷氧基化的有机硅烷稳定的胶体二氧化硅磨料颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 衬底 具有 稳定 磨料 颗粒 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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