[发明专利]激光熔覆层形成方法和激光熔覆装置在审
申请号: | 202010078899.4 | 申请日: | 2020-02-03 |
公开(公告)号: | CN111519181A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 小川史树;鬼头卓也;铃木润一 | 申请(专利权)人: | 株式会社捷太格特 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;杨林森 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了激光熔覆层形成方法和激光熔覆装置。激光熔覆层形成方法包括:分割处理,其将工件的周表面上的用于激光熔覆层的预定形成部分分割成多个区域;相位确定处理,其将工件保持成使得工件的轴向方向是水平的,并且将工件的相位确定成使得工件的周表面在一个区域中的法线的方向在相对于竖直向上方向的预定角度范围内;以及形成处理,其在确定了工件的相位的状态下在向所述一个区域供应粉末时用激光束照射所述粉末并且使所述粉末熔融以形成熔珠。通过在区域上重复相位确定处理和形成处理以在整个预定形成部分中形成熔珠,来形成激光熔覆层。 | ||
搜索关键词: | 激光 覆层 形成 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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