[发明专利]显示装置及半导体器件在审

专利信息
申请号: 202010081137.X 申请日: 2020-02-05
公开(公告)号: CN111584499A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 神内纪秀;渡壁创;花田明纮;小野寺凉;铃村功 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及显示装置及半导体器件。能在同一基板内形成LTPS TFT和氧化物半导体TFT。显示装置,其特征在于,具有形成有使用氧化物半导体(109)的第一TFT和使用多晶硅半导体的第二TFT的基板,上述第一TFT中,覆盖上述氧化物半导体而形成第一绝缘膜(112),第一漏电极(110)介由上述第一绝缘膜中形成的第一通孔(132)连接于上述氧化物半导体,第一源电极(111)介由第二通孔(133)连接于上述氧化物半导体,覆盖上述第一漏电极及上述第一源电极而形成第二绝缘膜(115),漏极布线(120)介由上述第二绝缘膜中形成的第三通孔(130)连接于上述第一漏电极,源极布线(122)介由上述第二绝缘膜中形成的第四通孔(131)连接于上述第一源电极。
搜索关键词: 显示装置 半导体器件
【主权项】:
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