[发明专利]耐锂还原层的形成用组合物、成膜方法及锂二次电池在审
| 申请号： | 202010086635.3 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN111261945A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 山本均;横山知史 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01M10/0568 | 分类号： | H01M10/0568;H01M2/14;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供耐锂还原层的形成用组合物、成膜方法及锂二次电池。耐锂还原层形成用组合物能够形成具有优良的Li离子传导性以及耐Li还原性的耐锂还原层，耐锂还原层的成膜方法使用了该耐锂还原层形成用组合物，锂二次电池包括该耐锂还原层。本发明的耐锂还原层形成用组合物含有溶剂、以及相对于所述溶剂分别表现出溶解性的锂化合物、镧化合物、锆化合物、和具备元素M的化合物，相对于由通式(I)表示的化合物中的化学计量组成，包含1.05倍以上2.50倍以下的锂化合物、包含0.70倍以上1.00倍以下的镧化合物和锆化合物、以及包含等倍的具备元素M的化合物，其中，Li |
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| 搜索关键词： | 还原 形成 组合 方法 二次 电池 | ||
【主权项】：
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