[发明专利]一种烷氧基修饰的低碱型受阻胺类光稳定剂及制备与应用

摘要

本发明公开了一种烷氧基修饰的低碱型受阻胺类光稳定剂及制备与应用，该光稳定剂的结构式为其中R为C1‑C6的直链烷基或C5‑C7环烷烃；该类光稳定剂的应用，用于以该光稳定剂为助剂获得高分子材料；本发明的光稳定剂具备低碱性，由于烷氧基的引入使活性氮电子云密度降低，进而降低氮的反应活性，同时由于它们的结构能直接进入受阻胺发挥稳定作用的链循环，可避免传统受阻胺生成氮氧自由基的过程被化学物质延缓或阻止，破坏发挥光稳定活性的链循环的问题出现，提高产品的光稳定效果；本发明所制得的光稳定剂应用于获得单丝和流延膜，使得单丝和流延膜能在酸性条件下仍具备防老化性能。