[发明专利]基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法有效
申请号: | 202010099942.5 | 申请日: | 2020-02-18 |
公开(公告)号: | CN111258044B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 戴琼海;吴嘉敏;张国勋 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G06T17/00;G06T7/73 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 王艳斌 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,该方法包括:在显微成像系统中,放置反射镜在样本上方,将微透镜阵列放置在显微镜成像的像面位置;通过纳米级快速平移台搭载微透镜阵列在像面平移进行亚像素扫描,采集样本的空间频率分量信息;根据样本的空间频率分量信息和非相干数值孔径融合算法以及经过解混叠的重建算法进行类4pi显微成像。该方法使用反射镜帮助物镜采集到更多的空间信息,与扫描光场的非相干孔径融合技术相结合,经过解混叠的重建算法将采集到的二维图像重建为三维显微图像。 | ||
搜索关键词: | 基于 反射 扫描 pi 显微 成像 方法 | ||
【主权项】:
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