[发明专利]球面结构的制作方法在审
| 申请号： | 202010102952.X | 申请日： | 2020-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN113277465A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 潘强 | 申请（专利权）人： | 上海新微技术研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01L21/308 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种球面结构的制作方法，包括：在基片表面形成掩模图形；对所述掩模图形进行回流处理，形成凸球面的掩模图形；以所述凸球面的掩模图形为掩摸，使用深反应离子刻蚀机台刻蚀所述基片的表面，将所述凸球面的掩模图形消耗完，从而在所述基片的表面形成凸球面。 | ||
| 搜索关键词： | 球面 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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