[发明专利]一种低压冷喷Al基涂层表面原位陶瓷化的方法在审

专利信息
申请号: 202010104111.2 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111172526A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 成波;李文生;翟海民;何东青;张辛健;安国升;冯力;何玲 申请(专利权)人: 兰州理工大学
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04;C25D11/06
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 朱玲艳
地址: 730050 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明提供了一种低压冷喷Al基涂层表面原位陶瓷化的方法,属于Al基涂层技术领域。本发明所述方法包括以下步骤:将Al粉和Al2O3粉混合,得到复合粉末;采用低压冷喷涂法,将所述复合粉末沉积于金属基体上,形成Al基复合涂层;在所述Al基复合涂层的表面进行微弧氧化,形成纯Al2O3层。本发明先采用低压冷喷涂法沉积Al‑Al2O3涂层,然后利用微弧氧化技术实现涂层表面原位纯Al2O3陶瓷层的转化,涂层表面的硬度及摩擦学性能均得到了明显提高。本发明将低压冷喷技术与微弧氧化技术相结合,兼顾低压冷喷涂金属涂层的致密性以及涂层表面硬度高的优点,能够显著提高Al基涂层的耐磨性。
搜索关键词: 一种 低压 al 涂层 表面 原位 陶瓷 方法
【主权项】:
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