[发明专利]一种负性光刻胶及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202010107740.0 | 申请日： | 2020-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111158213B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 郑万强;姚慧玲;国凤玲;聂亮;耿超群;王鹏雁 | 申请（专利权）人： | 山东瑞博龙化工科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/027 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 王磊 |
| 地址： | 251500 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种负性光刻胶及其制备方法与应用，负性光刻胶以质量份数计，由以下组分组成：树脂基体30～40份，光引发剂0.4～0.5份，活性增感助剂0.01～0.05份，自由基引发剂0.01～0.02份，酸扩散抑制剂0.02～0.05份，活性稀释剂2～7份，溶剂8～13份；其中，树脂基体由丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯和环氧丙烯酸树酯组成，丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯和环氧丙烯酸树酯的质量比为20～25:10～15。本发明提供的负性光刻胶具有良好的成膜性能、热稳定性和抗蚀刻性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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