[发明专利]一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置在审
申请号: | 202010110843.2 | 申请日: | 2020-02-24 |
公开(公告)号: | CN113293359A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 范思大;侯永刚;崔虎山;吴志浩;邹志文;邹荣园;丁光辉;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/505 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 徐尔东 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,包括上层进气圆盘、中层匀气圆盘、下层匀气圆盘,其中:三个圆盘依次上、中、下相叠,上层进气圆盘与下层匀气圆盘的接触面之间具有凸墙‑凹槽配合连接结构,上层进气圆盘与下层匀气圆盘的接触面之间通过螺丝与螺孔配合固定连接;三个圆盘均分中心环、次内环、外环三圈,三个圆盘上中心环轴向形成的区域为中心匀气,三个圆盘上次内环轴向形成的区域为中间匀气,三个圆盘上外环轴向形成的区域为边缘匀气,中心匀气、中间匀气以及边缘匀气均同轴;本发明将匀气装置分为三个独立进气的区域即中心匀气、中间匀气、边缘匀气,通过调节每个进气区域的进气量以及进气比例来获得更为均匀的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 分区 控制 流量 比例 pecvd 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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