[发明专利]一种多步协同表面活化低温混合键合方法有效

专利信息
申请号: 202010113428.2 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111243972B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 王晨曦;康秋实;周诗承;鲁添;何洪文;李珩;戚晓芸;胡天麒 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学;华为技术有限公司
主分类号: H01L21/603 分类号: H01L21/603
代理公司: 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人: 高媛
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种多步协同表面活化低温混合键合方法,属于晶圆键合及三维封装领域,该方法能够同时键合Cu‑Cu、SiO2‑SiO2以及Cu‑SiO2,所述方法具体步骤如下:一、将含有Cu电极和SiO2绝缘层图案的混合键合样品在室温下浸泡于甲酸溶液中,取出后在去离子水中进行超声清洗;二、采用等离子体对清洗后的样品进行表面活化;三、将等离子体活化后的样品对准后进行热压键合;四、对键合后样品进行保温,最终获得Cu/SiO2混合键合样品对。本发明操作便捷,成本低廉,低温200°C条件下实现了牢固的键合界面。大幅减小因热膨胀、热失配和热扩散而带来的一系列问题,避免损坏温度敏感器件,相比目前已知的其他混合键合方法具有明显优势,适用于下一代高性能芯片三维高密度异质集成。
搜索关键词: 一种 协同 表面 活化 低温 混合 方法
【主权项】:
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