[发明专利]一种GaN纵向逆导结场效应管有效

专利信息
申请号: 202010115155.5 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN111293176B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 周琦;董志文;魏鹏程;马骁勇;熊娓;杨秀;刘熙;陈万军;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/20
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于功率半导体技术领域,涉及GaN纵向逆导结场效应管。本发明利用器件顶层两个背靠背的PN结形成JFET结构来控制沟道的开启和关断,且利用肖特基金属淀积在一侧的P‑GaN上形成逆导二极管的阳极。通过适当的控制沟道宽度和PN结的掺杂浓度可以实现对器件阈值电压的控制。另外,位于肖特基阳极下方的浮空P型GaN埋层在GaN漂移区引入了反偏PN结,该反偏PN结在承受反向耐压时其耗尽区不断扩展使该器件体内电场分布均匀,有效降低器件内部最大峰值电场。本发明的有益效果为,在正向开关工作状态下,具有阈值电压可调,导通电阻低、饱和电流大、关态耐压高和低功耗等优点;在逆导工作状态下,具有开启电压低、导通电阻低,反向耐压大和低功耗等优点。
搜索关键词: 一种 gan 纵向 逆导结 场效应
【主权项】:
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