[发明专利]磁性存储装置在审

专利信息
申请号: 202010115206.4 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN112490355A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 都甲大;大坊忠臣;伊藤顺一;五十岚太一;甲斐正 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L27/22;G11C11/16
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种能提高特性的磁性存储装置。实施方式的磁性存储装置具备第1积层体、及所述第1积层体的上方的第2积层体。所述第1积层体及所述第2积层体分别包含:第1铁磁性体层,具有朝向第1方向的磁化;第1导电体层,位于所述第1铁磁性体层的上方,为非磁性;第2铁磁性体层,设置在所述第1导电体层的上方,具有朝向与所述第1方向不同的第2方向的磁化;第1绝缘体层,与所述第2铁磁性体层的上表面相接;及第3铁磁性体层,位于所述第1绝缘体层的上方。所述第2积层体的所述第2铁磁性体层厚于所述第1积层体的所述第2铁磁性体层。
搜索关键词: 磁性 存储 装置
【主权项】:
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