[发明专利]抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法有效
| 申请号： | 202010116537.X | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111665683B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 朴贤;崔有廷;权纯亨;裵信孝;白载烈 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供一种抗蚀剂底层组合物和一种使用抗蚀剂底层组合物来形成图案的方法，抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，聚合物包含由化学式1表示的结构单元；和溶剂。化学式1的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1] |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 底层 组合 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社，未经三星SDI株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010116537.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有膜电极、对电极、以及至少一个弹簧的传感器
- 下一篇：移动体和服务器装置
