[发明专利]太阳能电池缓坡结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010120942.9 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN113224209B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 王维廉;周凯茹;吴哲耀;唐安迪 申请(专利权)人: 凌巨科技股份有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L31/0352
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾苗栗县*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明旨在揭露一种太阳能电池缓坡结构及其制造方法,其于一基板上设置复数材料层(第一材料层至第四材料层),依据该些材料层所形成的表面阶梯层结构,于进行光阻曝光、显影、去除的步骤时能够有效去除光阻,而避免部分需要蚀刻的金属层因光阻过厚或过高导致金属残留。
搜索关键词: 太阳能电池 缓坡 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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