[发明专利]一种氟氧头孢降解产物杂质、其制备方法及其用途在审

专利信息
申请号: 202010127608.6 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN111233780A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 彭继先;宁小荣;袁继鲁;杨林青;杨胜男;姚晓楠;李茜茜 申请(专利权)人: 山东晶辉生物技术有限公司
主分类号: C07D265/06 分类号: C07D265/06
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 张贵宾
地址: 274000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种氟氧头孢降解产物杂质、其制备方法及其用途,属于药物技术领域。其结构式如式(Ⅰ)所示:(Ⅰ)其中,M为氢、金属离子或胺根离子。该降解产物结构首次报道;且该降解产物的制备方法简单易行,产物纯度高,可直接用于杂质对照;另外,本发明提供的降解产物可应用于氟氧头孢钠及其制剂的质量研究、工艺研究以及作为杂质对照品,为氟氧头孢钠药品的安全使用提供了理论依据,可对提高氟氧头孢钠质量标准提供有效的数据支持,为氟氧头孢钠的临床安全使用提供有效保障。
搜索关键词: 一种 头孢 降解 产物 杂质 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
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